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    KRI 考夫曼离子源

    1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
    离子源     霍尔离子源                                           射频离子源                       考夫曼离子源                              离子源自动控制器

    考夫曼离子源创始人 Dr. Harold Kaufman

    1926 年在美国出生
    1951 年加入美国 NASA 路易斯研究中心
    1971 年考夫曼博士获得美国宇航局杰出服务奖
    1978 年考夫曼博士成立了 Kaufman & Robinson,Inc 公司, 研发生产商用离子源
    2016 年入选美国太空总署 Grenn 研究中心名人堂
    2018 年1月逝世

    KRI 射频离子源 RFICP 系列

    射频离子源, 提供高能量, 低浓度的离子束, 单次工艺时间更长, 适合多层膜的制备和离子溅镀镀膜

    型号

    RFICP 40

    RFICP 100

    RFICP 140

    RFICP 220

    RFICP 380

    离子束流

    >100 mA

    >350 mA

    >600 mA

    >800 mA

    >1500 mA

    离子动能

    100-1200 V

    100-1200 V

    100-1200 V

    100-1200 V

    100-1200 V

    栅极直径

    4 cm Φ

    10 cm Φ

    14 cm Φ

    20 cm Φ

    30 cm Φ

    离子束

    聚焦, 平行, 散射

    KRI 考夫曼离子源 KDC 系列

    离子源通过加热灯丝产生离子束, 低浓度高能量宽束型离子源

    型号

    KDC 10

    KDC 40

    KDC 75

    KDC 100

    KDC 160

    离子束流

    >10 mA

    >100 mA

    >250 mA

    >400 mA

    >650 mA

    离子动能

    100-1200 V

    100-1200 V

    100-1200 V

    100-1200 V

    100-1200 V

    栅极直径

    1 cm Φ

    4 cm Φ

    7.5 cm Φ

    12 cm Φ

    16 cm Φ

    离子束

    聚焦, 平行, 散射

    KRI 霍尔离子源 eH 系列

    霍尔离子源无栅极, 高浓度, 低能量宽束型离子源

    型号

    eH 200

    eH 400

    eH 1000

    eH 2000

    eH 3000

    离子束流

    2A

    5A

    10A

    10A

    20A

    离子动能

    30-300 V

    50-300 V

    100-300 V

    50-250 V

    50-250 V

    栅极直径

    2.5”

    3.7”

    5.7”

    5.7”

    9.7”

    离子束

    > 45°散射

    KRi 射频离子源 RFICP 220

    射频离子源 RFICP 220
    尺寸:直径= 16.1“ 高= 11.8”
    离子束动能: 100-1200 V
    电流: >1A

    射频离子源 RFICP220

    KRi 射频离子源 RFICP 380

    KRI 大面积射频离子源 RFICP 380, 离子束流 >1500 mA, 离子动能 100-1200 V

    KRI 霍尔离子源 eH 400

    霍尔离子源 eH 400
    尺寸:直径= 3.7“ 高= 3”
    离子束动能: 50-300eV
    电流: 5a

    霍尔离子源 eh400

    KRI 霍尔离子源 eH 1000

    霍尔离子源 eH 1000
    尺寸:直径= 5.7“ 高= 5.5”
    离子束动能: 50-300V
    电流: 10A

    霍尔离子源

    KRi 射频离子源 RFICP 100

     KRI 射频离子源 RFICP 100 紧凑设计,适用于离子溅镀和离子蚀刻.小尺寸设计但是可以输出最大 400 mA 离子流

    KRI 考夫曼离子源 KDC 75

    考夫曼离子源 KDC 75
    尺寸: 直径= 5.5“ 高= 7.9”
    离子束动能: 100-1200 eV
    电流: 250 mA

    考夫曼离子源

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