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    KRI 射频离子源典型应用 IBE 离子蚀刻
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    KRI 射频离子源典型应用 IBE 离子蚀刻

    KRI 射频离子源典型应用 IBE 离子蚀刻
    客户案例一: 上海伯东美国考夫曼 KRI 大口径射频离子源 RFICP 220, RFICP 380 成功应用于 12英寸和 8英寸磁存储器刻蚀机, 8英寸量产型金属刻蚀机中, 实现 8英寸 IC 制造中的 Al, W 刻蚀工艺, 适用于 IC, 微电子,光电子, MEMS 等领域.

    作为蚀刻机的核心部件, KRI  射频离子源提供大尺寸, 高能量, 低浓度的离子束, 接受客户定制, 单次工艺时间更长, 满足各种材料刻蚀需求!
    离子源安装于金属蚀刻机

    客户案例二: 射频离子源 RFICP 220 集成于半导体设备, 实现 8寸芯片蚀刻
    射频离子源 RFICP 220离子蚀刻
    ------------ 上海伯东美国 KRI 射频离子源 RFICP 220安装于蚀刻机中--------

    客户案例三:  KRI 射频离子源安装在日本 NS 离子蚀刻机中, 对应用于半导体后端的 6寸晶圆进行刻蚀
    Hakuto (NS) 离子蚀刻机技术规格:

    型号

    NS 7.5IBE

    NS 10IBE

    NS 20IBE-C

    NS 20IBE-J

    适用范围

    适用于科研院所,实验室研究

    适合小规模量产使用和实验室研究

    适合中等规模量产使用的离子刻蚀机

    适合大规模量产使用的离子刻蚀机

    基片尺寸

    Φ4 X 1片或
    Φ6 X 1片

    φ8 X 1片

    φ3 inch X 8片
    φ4 inch X 6片
    φ8 inch X 1片

    Φ4 inch X 12片
    φ5 inch X 10片
    φ6 inch X 8片

    离子源

    8cm 或 10cm
    考夫曼离子源

    10cm NS离子源

    20cm 考夫曼离子源

    20cm 考夫曼离子源

    上海伯东美国 KRI 考夫曼离子源 RFICP 系列, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的离子束, 通过栅极控制离子束的能量和方向, 单次工艺时间更长
    RFICP  系列提供完整的套装, 套装包含离子源, 电子供应器, 中和器, 电源控制等
    RFICP  系列离子源是制造精密薄膜和表面的有效工具, 有效改善靶材的致密性光透射,均匀性,附着力等
     

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