<address id="v9jtp"><nobr id="v9jtp"><progress id="v9jtp"></progress></nobr></address>

<noframes id="v9jtp">
<form id="v9jtp"><nobr id="v9jtp"><progress id="v9jtp"></progress></nobr></form>

<address id="v9jtp"><address id="v9jtp"><nobr id="v9jtp"></nobr></address></address><address id="v9jtp"><nobr id="v9jtp"><progress id="v9jtp"></progress></nobr></address>

    磁控溅射镀膜机 Sputter
    阅读数: 3077

    磁控溅射镀膜机 Sputter

    磁控溅射镀膜机 Sputter
    上海伯东代理超高真空磁控溅射镀膜机. 真空度最高 5E-10 Torr, 特比适合生长高质量的薄膜或超薄膜, 金属与绝缘材料. 使用德国 Pfeiffer 分子泵和美国 KRI 离子源.

    磁控溅射镀膜机

     型号: 磁控溅射镀膜机 Sputter 16
     特性:

     真空度 2E-10 torr
     Co Sputter system
     4 Sputter Cathodes
     4 axis substrate
     manipulator with rotation and XYZmovement
     SiC Heater
     Pumping throughput control

     


    磁控溅射镀膜机

     型号: 磁控溅射镀膜机 Sputter 24
     真空度最高可到 5E-10 torr
     超高真空磁控溅射 Sputter 24 最擅长生长高质量的薄膜或是超薄 膜, 金属与绝缘材料. 在 24寸的小腔体里安装 6只磁控溅射抢, 保证 高效的抽气速度, 与友厂对比,氢和氧的污染系数好数十倍. 可制作与外延品质类似的薄膜..烘烤时可把磁铁拆下以?;ご盘煌舜? 客户可选择 RHEED, 在磁铁拆下时可检测样品薄膜的质量. Sputter 24 均匀性及重现性非常出色, 可以使用DC, RF, 脉冲直流电源. 标准材料与磁性材料均可使用. 可安排成共溅射与垂直溅射, 依客户指定设计安装.

     Sputter 24 与激光加热器联用可变为反应型磁控溅射, 可成长氧化物薄膜与氮化物薄膜等. 正下方可安装一只离子源, 可以提供样品清洗与辅助镀膜.
     特性:
     Custom-type SS316L electro-polished chamber
     • 5E-10 Torr Base Pressure
     • 2-in substrate size
     • 4-axes sample manipulator (XYZ, and Rotation)
     • SiC (or PBN) heating element with sample heating temperature: 900°C
     • 3 x 2-inch Magnetron Sputter cathodes (confocal or parallel)
     • DC, RF, or pulsed-DC power supplies
     • Thickness monitor
     • Pressure control system: upstream
     • FBBeam System Control Software

    其他产品
    皇族电竞