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    KRI 考夫曼离子源 KDC 10
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    KRI 考夫曼离子源 KDC 10

    KRI 考夫曼离子源 KDC 10
    上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 10: 考夫曼型离子源 Gridded 系列最小型号的离子源. 适用于集成在小型的真空设备中, 例如预清洗, 离子溅射, 离子蚀刻. 在 <1000eV 低能量, 通 Ar 氩气时离子蚀刻的能力显著提高.KDC 10 离子源低损伤, 宽束设计, 低成本等优点广泛应用在显微镜领域, 标准配置下 KDC 10 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 10mA.
    考夫曼离子源 KDC10
     KRI 考夫曼离子源 KDC 10 技术参数

    型号

    KDC 10

    供电

    DC magnetic confinement

     - 阴极灯丝

    1

     - 阳极电压

    0-100V DC

     - 栅极直径

    1cm

    中和器

    灯丝

    电源控制

    KSC 1202

    配置

    -

     - 阴极中和器

    Filament, Sidewinder Filament  或LFN 1000

     - 架构

    移动或快速法兰

     - 高度

    4.5'

     - 直径

    1.52'

     - 离子束

    集中
    平行
    散设

     -加工材料

    金属
    电介质
    半导体

     -工艺气体

    惰性
    活性
    混合

     -安装距离

    2-12”

     - 自动控制

    控制4种气体


    KRI 考夫曼离子源 KDC 10 应用领域
    离子清洗, 显微镜抛光 IBP
    溅镀和蒸发镀膜 PC
    辅助镀膜(光学镀膜) IBAD
    表面改性, 激活 SM
    离子溅射沉积和多层结构 IBSD
    离子蚀刻 IBE

    若您需要进一步的了解上海伯东考夫曼离子源, 请参考以下联络方式
    上海伯东: 叶小姐                                   台湾伯东: 王小姐
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