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    KRI 考夫曼离子源自动控制器 Power Supply and Control
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    KRI 考夫曼离子源自动控制器 Power Supply and Control


    KRI Ion Source Power Supply and Power Pack Controllers 功率控制器

    KRI Ion Source 应用领域:

    无栅极等离子源技术
    ----End-Hall 离子/等离子源
    有栅极离子源技术
    ----RFICP 离子源
    ----DC 离子源
    电子源
    技术
    ----灯丝
    ----中空阴极 (Hollow cathode)
    ----等离子中和器
    单机应用
    ----直流电源 (DC power)
    ----射频电源 (RF power)

    有多个模组组成,模组的特性取决于功率、频率、电压、电流和控制方式,大多数模组都满足 CE 和 CoHS 标准。

    监控:监视器
    稳定输出:设置的最优化
    状态诊断:用户直接获取
    参数存储:准确保存

    连续性和稳定性
    功率控制器能够在紧急情况下比如载入高能量的等离子体、短路、电流过冲、电压过冲和功率过冲的情况,实现?;すδ?。确保在运行沉积和刻蚀工艺时进行不间断的操作。通过数显的面板,可以即时观测和控制工艺参数和状态资讯。

    KRI Individual Power Supply Controller 独立的功率控制器
    功率控制器可以单独使用也可以集成到其它功率包中,能提供直流、交流和射频功率。
    AC Power 交流电源

    交流电源输出一个低频的直流信号,适用于低阻抗负载,比如驱动类似于灯丝这样的发热原件,通过大的功率加热灯丝到发射热电子的温度。
    交流电源比直流电源更有利于灯丝寿命的延长
    软起功能有助于平稳的提高灯丝温度从冷起到电子发射的温度

    型号:
    FC 1000
    FC 1006
    DC Power 直流电源

    直流电源通常应有在等离子体辉光放电、偏压和离子加速??商峁┘盖叩氖涑龉β?,电压范围 80~1000 V。典型应用是用于离子、等离子和电子源的电极和衬底偏压。
    对阳极施以电压点燃和维持等离子放电
    对等离子施以偏压去定量离子能量
    对离子光栅施以偏压去扑捉和加速离子
    对阴极施以电压获得电子流
    输出的电压、电流和调节模式可选,可更具需要选择输出值像等离子电位、离子能量、电子流和离子轨道等参数。

    RF Power 射频电源
    射频电源产生一个射频信号,适用于低阻抗的电磁负载,典型应用是驱动射频天线将能量辐射进等离子腔室。通过感应耦合的方式射频功率产生和维持一个高密度的等离子。通过自动阻抗匹配使功率大的传输最优化,此外设计上使电容耦合和功率衰减最小化。

    型号:
    RF 1000
    RF 1500
    气体控制器:
    KRI 气体控制器提供功率和控制多路品质流量计,能够使用于不同的气体和气体混合物,而且可以和几乎所有的不同制造商的模组相容,数字显示模式。使用者可以自行设置流量并有存储功能。

    型号: GC 1000
    自动系统控制器:

    是一个可程式设计的单元,能集成到电源模组中去提供完美的功率控制。该控制器采用独有的通信协定与功率模组进行快捷的通信,实现控制功能。
    它能够自动选择最优的模式去校准等离子负载,达到最稳定的状态,同时可以选择回馈模式。能存储多个工艺程序,同时控制多个 MFC。

    自动系统控制器:
    是一个可程式设计的单元,能集成到电源模组中去提供完美的功率控制。该控制器采用独有的通信协定与功率模组进行快捷的通信,实现控制功能。
    它能够自动选择最优的模式去校准等离子负载,达到最稳定的状态,同时可以选择回馈模式。能存储多个工艺程序,同时控制多个MFC。

    KRI Integrated Power Pack Controller 电源模组集成包
    电源模组集成包有独立的电源模组衍生而来,因为 KRI 的独立电源模组是一种标准的模组,所以这些模组能够容易的集成到自动、多功能的功率包中。集成包是一个强有力的工具,能够简化等离子、离子和电子源的操作,最大的优点是可以方便的实现功率控制的最优化。

    当经常应用在如下的场合:
    1. 工艺工程师想实现宽范围的工艺设计和优化,渴望确保参数的重复性,工艺可控
    2. 生产经理想实现一个简单的命令操作,使工艺参数快速稳定
    3. OEM 想实现高的集成度从而降低成本
    4. 从事薄膜表面和纳米结构的科研工作者想实现灵活、精确的工艺控制

    eH Plasma Power Pack Controller---eH 等离子功率集成包
    eH 等离子功率集成包用于驱动 end-Hall 离子源,它由电子发射模组、等离子放电模组和自动系统控制模组组成,结构紧凑、重量轻便。适用于材料工艺中要求高效、稳定和精确的电子或离子源的功率控制。

    它能给 end-Hall 等离子源的阳极或阴极提供功率,使用者可根据需要设置阳极的离子密度和离子能量,同样的使用者也可以界定阴极的电子流参数。eH Plasma Power Pack 能够跟踪离子流,自动发射电子确保电中性。

    eH Plasma Power Pack 有自我?;すδ?,同时它是一个快速反应的功率源,可以在几秒钟内点火产生等离子,并在几秒钟内使离子束达到稳定??梢源娲⒍喔龉ひ粘绦?、控制多个MFC确保对多种气体和气体混合物的精确控制。
    使用者能容易的设置各种参数和模式、状态,面版上会显示出设定值、运行值、功能表存储资讯和工作状态资讯。

    KRI RFICP Ion Power Pack Controller 射频感应耦合等离子功率集成包
    RFICP Ion Power Pack Controller 用于驱动有栅极离子源,由中和器模组、放电模组、偏压模组和加速模组组成,这些模组集成在一个 19” 的集成包中。

    RFICP Ion Power Pack Controller 给离子源的射频线圈、离子光学和中和器提供电源,将射频功率耦合到辉光放电腔室,产生高密度的等离子体。配有自动阻抗适配器实现最优化,用户可以选择离子能量和离子密度来满足工艺的要求。广泛用于沉积和刻蚀工艺中。
    射频的额定功率 0.5 KW 或更高,中和器的额定功率 0.5 A 或更高。
     

    其他产品
    皇族电竞